“国产芯”再迎喜讯，芯片设备被攻克，已实现完全自主化

芯片是一个庞大的产业。一个芯片的制造过程是复杂和冗长的。要想实现芯片自主化，所面临的困难不是一点两点，而是要面对芯片产业上下游众多的挑战。现在我国芯片被卡脖子，从材料到设计和制造都面对着很多的技术壁垒。不过现在我国正在慢慢突破技术，实现芯片产业基本自主。

最近，我国的一个半导体企业就实现了一项新的技术突破。这项技术的重要程度极高，是芯片制造过程中不可缺少的一环，没有这项技术，芯片的制造就不可能完成。从重要性程度来说，这项技术不亚于光刻机。这家企业就是盛美半导体，其最近再次攻克了边缘湿法蚀刻技术，生产出相应的设备。更重要的是，该项突破依赖的是国产技术，这意味着这项技术实现了这项技术的自主化。我国之后不必再担心老美对我们进行卡脖子了。

我国为什么制造不出芯片，主要的原因是很多关键的技术被封锁了，一些成品的设备也被老美所封住了渠道，买也买不到。其中公认的最关键的技术和设备就是EUV光刻机了。前一段，上海微电子落地了最新的中低端国产光刻机。此消息一出，可谓振奋人心，给我国芯片产业打了一针强心剂，也让我国芯片自主进程又向前迈进了一大步。

但是我们说，上海微电子这一次研发的光刻机设备再好，也不是EUV光刻机，对于高端芯片还是没有什么办法。这几乎就是一种局限，没有EUV光刻机，就限制了我国通往高端芯片的道路。而我们现在要说的就是EUV光刻机平起平坐，同样重要的蚀刻机。缺少这玩意，就跟缺少EUV光刻机一样，我们还是搞不出来顶尖那一小撮。

光刻机在芯片制造过程中的承担的功能部分非同一般。通过光刻机的“雕刻加工”，可以在晶圆上刻画出各种精细的图形，形成集成电路。这个过程中，光刻机设备的水平直接决定了芯片的制程，可以说是决定芯片“命运”的一步。越是精密的芯片制造，对光刻机的要求越高。

现在顶尖的高端手机几乎都有一个门槛，那就是其芯片需采用的是5nm工艺制程。这种高端芯片只有EUV光刻机能够满足其制造。这也就意味着我国现在没有EUV光刻机，就没办法自主生产出高端手机的关键芯片。

但是芯片制造不止光刻机。在将芯片雕刻之后，还需要后续一系列的处理，芯片才能真正完成。这其中最重要的就算是蚀刻。光刻机是在晶圆上“作画”，而蚀刻机就是按照“画”来腐蚀掉那些多余的地方和杂质，使集成电路形成。对于芯片制造来说，光刻机和蚀刻机就像一对兄弟一样，一个处理前置，一个处理后置。

蚀刻机除了影响到芯片的制造成功之外，还影响到芯片的性能和良品率。水平不够的蚀刻技术可能会去除掉不应该去除的部分，或者没有清理干净应该去除的薄膜和杂质，这些都会影响到芯片的性能。如果蚀刻技术再差一点，就会使得芯片报废，达不到合格使用的水准。

现在市场上的蚀刻方法主要有干法和湿法两种，其中湿法蚀刻更加流行。现在市场上主要的芯片蚀刻使用的都是后者的技术。盛美半导体所研发的边缘湿法蚀刻设备，不仅能够完美完成光刻之后的蚀刻任务，还能够提高芯片的性能和良品率。

不得不说，这一次，又是我国赢了。除了EUV光刻机，老美动用资源封锁的技术和设备正在一个个被我国解锁。加上我国产品的强大的竞争力，老美不得不要考虑一下之后接下来该怎么办了。而那些助纣为虐的企业也应该要好好想一想一下接下来该如何寻求后路了。

还记得华为被制裁的时候，不少人误以为是因为华为才让老美将目光转向我国的芯片产业，但是现在种种事迹表明，老美醉翁之意不在酒，而是在我国的更多的高科技产业。在不久的将来，将会开启一场前所未有的科技之争，主角当然是以老美为首的老牌强国和以我国为首的后起之秀。为了能够在这场竞争中获得主动权和更多的筹码，我国现在必须将一些被封锁的技术攻克，不被对手卡脖子。实现芯片自主化，是其中一个极其重要的部分，目前我国虽然已经取得很多进展，但是任重道远，我们还需要继续努力。

边缘湿法蚀刻技术突破！点赞中企，高端芯片又近了一步。